浙江创芯取得半导体结构的形成方法专利
创始人
2025-12-02 10:08:18
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国家知识产权局信息显示，浙江创芯集成电路有限公司取得一项名为“半导体结构的形成方法”的专利，授权公告号CN119340204B，申请日期为2024年10月。
天眼查资料显示，浙江创芯集成电路有限公司，成立于2020年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本182000万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江创芯集成电路有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目268次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息482条，此外企业还拥有行政许可7个。
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来源：市场资讯
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