星庆光学申请基于显微图谱的半导体缺陷检测方法专利,为半导体质量控制提供保障
创始人
2025-12-26 12:08:43
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国家知识产权局信息显示,上海星庆光学仪器有限公司申请一项名为“基于显微图谱的半导体缺陷检测方法及设备”的专利,公开号CN121208004A,申请日期为2025年10月。

专利摘要显示,本发明提供了一种基于显微图谱的半导体缺陷检测方法及设备,包括:根据被测半导体材料类型选择红外多谱段显微成像的谱段,采用电动载物台对样品进行第一预定视场及第一预定分辨率扫描成像,并将扫描图像拼接为完整显微图像;对完整显微图像进行分析,定位疑似污染物缺陷微区;对疑似污染物缺陷微区进行第二预定视场及第二预定分辨率红外多谱段显微成像,通过图像处理算法识别缺陷类型,若确定为污染物缺陷微区,则切换至红外宽谱显微测谱光路;对红外光谱光源进行傅里叶变换,根据傅里叶变换结果对污染物缺陷微区进行光谱检测,将采集的光谱数据与预设数据库中的数据进行比对,确定污染物成分及分布。本发明为半导体质量控制提供保障。

天眼查资料显示,上海星庆光学仪器有限公司,成立于1999年,位于上海市,是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析,上海星庆光学仪器有限公司参与招投标项目1次,财产线索方面有商标信息9条,专利信息12条,此外企业还拥有行政许可6个。

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来源:市场资讯

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