国家知识产权局信息显示,甚磁科技(上海)有限公司申请一项名为“一种提高REBCO超导层临界电流的方法”的专利,公开号CN121215351A,申请日期为2025年11月。
专利摘要显示,本发明公开了一种提高REBCO超导层临界电流的方法,涉及超导材料技术领域。本发明提高REBCO超导层临界电流的方法包括以下步骤:将REBCO超导带材在纯氧气氛中进行退火处理,淬火至20‑25℃后,经化学方法去除表面银层,之后在臭氧和氧气的混合气氛中进行退火,沉积保护层,最终实现REBCO超导层临界电流的提升。本发明通过特定多步氧化工艺,可有效调控REBCO超导带材的载流子浓度,使其突破现有技术中普遍存在的欠掺杂状态,达到过掺杂水平,进而显著提升带材的临界电流性能。本发明工艺简单,稳定性和工业可行性高,可满足电力传输、高场磁体等关键领域对REBCO带材更高载流能力的需求。
天眼查资料显示,甚磁科技(上海)有限公司,成立于2022年,位于上海市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本153.7942万人民币。通过天眼查大数据分析,甚磁科技(上海)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目4次,专利信息20条,此外企业还拥有行政许可1个。
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来源:市场资讯