国音超声波取得半导体超声清洗设备专利，保障半导体在清洗时可以被清洗完全
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2026-01-01 15:16:47
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国家知识产权局信息显示，昆山国音超声波工业设备有限公司取得一项名为“一种半导体超声清洗设备”的专利，授权公告号CN223733422U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种半导体超声清洗设备，涉及半导体清洗技术领域，包括清洗腔体，所述清洗腔体的顶端四角位置处皆经槽口安装有电动推杆，四个所述电动推杆的顶部皆安装有连杆，四个所述连杆的一端底部皆安装有立柱，四个所述立柱的底端共同连接有支撑壳体，所述支撑壳体的顶端开设有四个长槽，四个所述长槽顶端皆安装有夹块，四个所述夹块的底端均安装有卡块，四个所述卡块的底部皆贯穿对应长槽延伸至支撑壳体内部，四个所述卡块的一端皆铰接连接有连动杆，四个所述连动杆的一端共同铰接安装有转盘。本实用新型通过设置有一系列的结构，保障半导体在清洗时可以被清洗完全，在清洗完成后半导体可以远离夹块，便于进行拿取，便于进行上料。
天眼查资料显示，昆山国音超声波工业设备有限公司，成立于2010年，位于苏州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，昆山国音超声波工业设备有限公司参与招投标项目1次，专利信息28条。
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来源：市场资讯
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