福特科光电申请二维或双层光栅结构及其制备方法专利，提高了结构精度与工艺效率
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2026-01-17 21:08:28
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国家知识产权局信息显示，福建福特科光电股份有限公司申请一项名为“一种二维或双层光栅结构及其制备方法”的专利，公开号CN121348481A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请涉及一种二维或双层光栅结构及其制备方法，属于微纳加工技术领域。该结构包括在衬底上依次堆叠的底层光刻胶和顶层光刻胶，底层光刻胶仅对第一波长紫外光敏感，顶层光刻胶仅对第二波长紫外光敏感。通过分别使用两种不同波长的紫外光源对两层光刻胶进行选择性曝光，实现各自图案的独立控制，经显影后形成双层或二维光栅结构。该方法避免了传统工艺中多次涂胶、对位不准的问题，提高了结构精度与工艺效率，适用于光子晶体、光栅耦合器、偏振分束器等光子器件的制备。
天眼查资料显示，福建福特科光电股份有限公司，成立于2002年，位于福州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本7690万人民币。通过天眼查大数据分析，福建福特科光电股份有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目15次，财产线索方面有商标信息13条，专利信息177条，此外企业还拥有行政许可30个。
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来源：市场资讯
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