国家知识产权局信息显示,华进半导体封装先导技术研发中心有限公司申请一项名为“重布线结构及其形成方法”的专利,公开号CN121398628A,申请日期为2025年10月。
专利摘要显示,一种重布线结构及其形成方法,其中重布线结构包括:至少一重布线层;所述重布线层包括:沿第一方向延伸的若干信号线和若干接地线;所述信号线及所述接地线沿第二方向交替分布,所述第一方向与所述第二方向垂直。所述重布线层内的信号线和接地线沿第二方向交替分布,使得同一层的重布线层内相邻的信号线之间能够通过接地线隔离,提高相邻信号线之间的信号隔离质量,减少相邻信号线之间的串扰,进而提高信号传输质量以及芯片的性能。
天眼查资料显示,华进半导体封装先导技术研发中心有限公司,成立于2012年,位于无锡市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本46246.82万人民币。通过天眼查大数据分析,华进半导体封装先导技术研发中心有限公司共对外投资了13家企业,参与招投标项目104次,财产线索方面有商标信息6条,专利信息1117条,此外企业还拥有行政许可55个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
来源:市场资讯