嘉兴熙磐微电子申请槽式半导体晶圆清洗机专利，晶圆上下表面的洁净度差异缩小
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2026-01-24 18:09:59
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国家知识产权局信息显示，嘉兴熙磐微电子科技有限公司申请一项名为“一种槽式半导体晶圆清洗机”的专利，公开号CN121398505A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请公开了一种槽式半导体晶圆清洗机，涉及半导体加工装置技术领域。本申请包括：机体，所述机体内构造有呈阶梯设置的高位水框和低位水框，所述；浸洗机构，包括固定连接在低位水框内的两个浸泡槽，所述浸泡槽内通过升降件可拆卸安装有承载篮，所述承载篮上设置有用于驱动晶圆转动的拨轮件，所述机体内一侧固定安装有位于低位水框上侧的出水槽口，所述机体上安装有进液管，所述进液管一端与出水槽口相连通且另一端与浸泡槽底部相连通。本申请通过拨轮件驱动晶圆在浸泡过程中低速转动，配合U型喷管的定向喷淋辅助晶圆持续转动，可消除清洗盲区，颗粒杂质去除率提高，晶圆上下表面的洁净度差异缩小。
天眼查资料显示，嘉兴熙磐微电子科技有限公司，成立于2020年，位于嘉兴市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本505万人民币。通过天眼查大数据分析，嘉兴熙磐微电子科技有限公司专利信息10条。
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来源：市场资讯
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