SK海力士取得稀释剂组合物和处理半导体衬底表面方法专利
创始人
2026-01-30 20:40:26
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国家知识产权局信息显示,爱思开海力士有限公司取得一项名为“稀释剂组合物和处理半导体衬底的表面的方法”的专利,授权公告号CN114815531B,申请日期为2022年1月。

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来源:市场资讯

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