金融界2025年5月28日消息,国家知识产权局信息显示,罗姆股份有限公司申请一项名为“氮化物半导体装置”的专利,公开号CN120052069A,申请日期为2023年09月。
专利摘要显示,本发明提供氮化物半导体装置(10),具备第一氮化物半导体层(16)、形成在第一氮化物半导体层(16)上并且具有比第一氮化物半导体层(16)的带隙大的带隙的第二氮化物半导体层(18)、以及形成于第二氮化物半导体层(18)的上方的栅电极(32)、源电极(24)以及漏电极(26)。第一氮化物半导体层(16)是包含GaN的层。第一氮化物半导体层(16)的针对(102)面的X射线摇摆曲线的半值宽度为1100arcsec以上且1400arcsec以下。
来源:金融界