苏州苏纳光电申请电容结构及其制作方法专利，能够提高电容密度的同时降低串扰和制作难度
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2025-07-09 17:38:20
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金融界2025年7月9日消息，国家知识产权局信息显示，苏州苏纳光电有限公司申请一项名为“电容结构及其制作方法”的专利，公开号CN120282458A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明公开了一种电容结构及其制作方法，电容结构包括：衬底，具有第一表面，第一表面上形成有槽结构，槽结构至少包括相对第一表面倾斜设置的第一侧壁，槽结构的内壁上形成有沟槽；层堆叠结构，包括交替层叠的奇数电极层和偶数电极层以及形成在奇数电极层和偶数电极层之间的介质层，层堆叠结构覆盖第一表面、槽结构内壁和沟槽内壁；第一绝缘层，覆盖层堆叠结构；以及金属互联层，形成在第一绝缘层上，金属互联层包括与奇数电极层电连接的第一金属互联层，以及与衬底和/或偶数电极层电连接的第二金属互联层。
天眼查资料显示，苏州苏纳光电有限公司，成立于2014年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本626.9992万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州苏纳光电有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目31次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息157条，此外企业还拥有行政许可7个。
来源：金融界
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