豪威科技申请形成图像传感器模块的挡坝的方法专利，形成附着到盖玻片的至少一个挡坝
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2025-07-15 14:38:29
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金融界2025年7月15日消息，国家知识产权局信息显示，豪威科技股份有限公司申请一项名为“形成图像传感器模块的挡坝的方法”的专利，公开号CN120322040A，申请日期为2020年12月。
专利摘要显示，一种用于形成图像传感器模块的挡坝的方法。所述方法包括：提供盖玻片；使用干膜对盖玻片进行层压，其中干膜是光刻材料；将曝光掩模对齐以覆盖干膜，其中曝光掩模平行于盖玻片的表面；使用紫外光将曝光掩模曝光；以光刻工艺将经曝光的干膜显影；以及通过加热将经光刻处理的干膜固化；其中经固化的干膜形成附着到盖玻片的至少一个挡坝。
来源：金融界
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