新凯来取得半导体刻蚀设备专利，解决刻蚀性能较差的问题
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2025-08-22 22:09:10
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金融界2025年8月22日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市新凯来工业机器有限公司取得一项名为“半导体刻蚀设备”的专利，授权公告号CN223260558U，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本申请实施例提供一种半导体刻蚀设备，涉及半导体技术领域，解决刻蚀性能较差的问题。该半导体刻蚀设备包括第一电极、第二电极、背板，以及等离子体调节装置，第一电极和第二电极沿第一方向相对设置，第二电极背离第一电极的一侧设置有背板，第一电极上承载有待处理基片。等离子体调节装置包括调整环、驱动组件，以及密封组件，调整环套设在第二电极的外侧，并与驱动组件传动连接，驱动组件驱动调整环相对背板沿第一方向移动，密封组件设置在调整环与背板之间。通过调整调整环的位置，可以调整等离子体的分布，进而调整各膜层的刻蚀均匀性、等离子体边缘刻蚀行为，以及改善待处理基片边缘的刻蚀形貌偏移。
天眼查资料显示，深圳市新凯来工业机器有限公司，成立于2022年，位于深圳市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本106584.4444万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市新凯来工业机器有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目8次，财产线索方面有商标信息20条，专利信息134条，此外企业还拥有行政许可12个。
来源：金融界
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