行业新闻
华虹半导体：第四季度销售收入达6.6亿美元，同比增长22.4%
钛媒体App 2月12日消息，华虹半导体在港交所公告称，第四季度销售收入再创历史新高，达6.599亿美元，同比增长22.4%，环比增长3.9%。毛利率13.0%...
【异动股】电源设备板块拉升，金时科技(002951.CN)涨10.0%
【财华社讯】今日早盘，截至11:15，电源设备板块拉升。金时科技(002951.CN)涨10.00%报17.71元，中恒电气(002364.CN)涨10.00%...
湖南理工学院与盟祺科技申请AI深度感知MOS管故障预警与生命周期全景管理系统专利，大幅降低误报与漏报发生率
国家知识产权局信息显示，湖南理工学院、深圳市盟祺科技有限公司申请一项名为“AI深度感知MOS管故障预警与生命周期全景管理系统”的专利，公开号CN12150441...
中国电力科学研究院申请电流源系统专利，提升高端电能表检定装置在小电流输出稳定性及功率因数精度方面的性能指标
国家知识产权局信息显示，中国电力科学研究院有限公司申请一项名为“电流源系统”的专利，公开号CN121499871A，申请日期为2026年1月。 专利摘要显示，一...
智谱40%、MiniMax 25%、芯片板块也飙升！港股AI概念爆了
芯片板块联动走高。号称“国产GPU四小龙”的天数智芯午后涨幅扩大至25%、壁仞科技涨近10%。兆易创新涨超8%。AI算力需求持续升温推动相关硬件厂商受益预期升温...
大恒科技成立光电科技公司，含集成电路业务
企查查APP显示，近日，北京大恒光电科技有限公司成立，注册资本5000万元，经营范围包含：集成电路制造；集成电路销售；仪器仪表制造；仪器仪表销售；光纤销售等。企...
江苏翊腾电子申请用于车载传感器结构件加工的冲压设备专利，有利于提高冲压加工效率
国家知识产权局信息显示，江苏翊腾电子科技股份有限公司申请一项名为“一种用于车载传感器结构件加工的冲压设备”的专利，公开号CN121491203A，申请日期为20...
新锐股份拟不超7亿收购慧联电子70%股权
雷达财经 文|冯秀语 编|李亦辉 2月11日，苏州新锐合金工具股份有限公司（证券简称：新锐股份，证券代码：688257）公告，公司于2026年2月11日与新乡市...
电表的精度有几级？各级应用场所是哪里？二分钟解读！
电表的精度有几级？各级应用场所是哪里？二分钟解读！ 电能表的精度一般是多少？电能表的精度按等级划分不同等级，对应不同的误杀范围，适配不同的供暖场景，且等级数值越...
中微半导体申请掩膜结构及其制备方法专利，降低开孔轮廓变形的概率
国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“一种掩膜结构及其制备方法、半导体设备”的专利，公开号CN121496321A，申请日期为...
三星电子宣布已启动HBM4芯片量产，并已向客户交付
据路透社报道，三星电子（005930.KS）2月12日宣布，已启动最新一代HBM4芯片的大规模生产，并已向客户发货商业产品。 HBM4是三星第六代高带宽内存（H...
韩国KOSPI指数续创新高，芯片股走强
每经AI快讯，2月12日，韩国KOSPI指数高开高走，涨幅扩大至1.8%，续创历史新高。芯片股走强，三星电子、SK海力士均涨超2%。
北京大学科研团队构建出首个大规模量子通信芯片网络
北京大学物理学院官微2月12日宣布，该院现代光学研究所王剑威教授、龚旗煌教授团队与电子学院常林研究员团队，在国际顶级学术期刊《自然》上发表了题为“基于集成光量子...
上海颇勒申请半导体生产用超纯水过滤设备专利，反冲洗与排杂效果好效率高
国家知识产权局信息显示，上海颇勒过滤技术有限公司申请一项名为“一种半导体生产用超纯水过滤设备”的专利，公开号CN121490468A，申请日期为2025年12月...
科创100ETF鹏华(588220)红盘向上，CPO、芯片再度走强
早盘CPO概念再度走强，消息面上，Lumentum最新表示公司已获得CPO相关的数亿美元订单，预计2026Q4 CPO营收约5000万美元，2027年上半年将迎...
罗技申请用于AR/VR触控笔装置的电容感测专利，导电元件更靠近按钮顶表面而非壳体侧表面
国家知识产权局信息显示，罗技欧洲公司申请一项名为“用于AR/VR触控笔装置的电容感测”的专利，公开号CN121511439A，申请日期为2024年6月。 专利摘...
为了堆料？曝小米18尺寸变大 全系标配2亿像素传感器
【CNMO科技消息】2月12日，数码博主“数码闲聊站”爆料称，某厂下一代小屏旗舰手机的尺寸变大，工程机为6.3-6.4+英寸。并且该系列全系标配2亿像素传感器。...
中国建筑材料科学研究总院申请锰铁氧体陶瓷制备方法专利，表面电阻率低至10^6Ω·cm
国家知识产权局信息显示，中国建筑材料科学研究总院有限公司申请一项名为“一种锰铁氧体陶瓷及其制备方法和应用”的专利，公开号CN121494520A，申请日期为20...