国创科申请喷射稳定的电流体芯片及成型方法专利，保证了打印精度
创始人
2026-04-07 23:55:10
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国家知识产权局信息显示，武汉国创科光电装备有限公司申请一项名为“一种喷射稳定的电流体芯片及成型方法”的专利，公开号CN121799054A，申请日期为2026年2月。
专利摘要显示，本申请涉及一种喷射稳定的电流体芯片及成型方法，包括：第一基板，其底面开设有多个环形槽以形成多个凸台，凸台底面开设有贯穿的喷射孔；第二基板，其顶面开设有多个容纳槽，且容纳槽的槽底开设有至少一个出液孔；第二基板的顶面连接于第一基板的底面，每个容纳槽均覆盖至少一个环形槽，且环形槽的槽壁与容纳槽的槽壁之间留有间距；电极结构，其包括多个电极环，多个电极环均连接于第二基板的底面，且多个电极环分别环绕于多个出液孔，电极环与该电极环对应的凸台之间具有电势差。本申请通过在第二基板上开设容纳槽，给喷射孔下方预留较大空间，而避免对喷出的功能液产生影响，保证了打印精度。
天眼查资料显示，武汉国创科光电装备有限公司，成立于2020年，位于武汉市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本7588.8096万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉国创科光电装备有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目28次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息234条，此外企业还拥有行政许可11个。
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来源：市场资讯
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