京东方申请发光基板及其制备方法、显示装置专利，用于降低高压发光二极管的面积_电子应用

京东方申请发光基板及其制备方法、显示装置专利，用于降低高压发光二极管的面积

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2025-05-30 10:33:06

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金融界2025年5月30日消息，国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请一项名为“发光基板及其制备方法、显示装置”的专利，公开号CN120072809A，申请日期为2023年11月。

专利摘要显示，本公开的实施例提供了一种发光基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，用于降低高压发光二极管的面积，提升发光基板的像素密度。上述发光基板包括驱动背板和设置于驱动背板上的多个发光器件。驱动背板包括多个驱动电路，一个发光器件与一个驱动电路连接。发光器件包括沿垂直于驱动背板的方向层叠设置的多个器件层，以及位于相邻两个器件层之间的导电图案。多个器件层均包括沿远离驱动背板的方向层叠设置的第一半导体图案、发光图案和第二半导体图案。上述显示面板用于提供背光或者显示图像。

天眼查资料显示，京东方科技集团股份有限公司，成立于1993年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3765252.9195万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方科技集团股份有限公司共对外投资了66家企业，参与招投标项目246次，财产线索方面有商标信息776条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可45个。

北京京东方技术开发有限公司，成立于2016年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3800万人民币。通过天眼查大数据分析，北京京东方技术开发有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目91次，专利信息2975条，此外企业还拥有行政许可4个。

来源：金融界

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