金融界2025年6月2日消息,国家知识产权局信息显示,格科半导体(上海)有限公司申请一项名为“一种研磨液滴定装置、液位检测方法”的专利,公开号CN120056005A,申请日期为2023年11月。
专利摘要显示,本发明公开了一种研磨液滴定装置,包括:第一容器,用于容纳研磨液;至少两个监测装置,设置在所述第一容器的内部和/或侧壁上,用于监测第一容器中的研磨液的液位;根据研磨液的至少两个液位预设高度对应设置所述监测装置的安装高度,使得当第一容器中的研磨液的液位处于所述安装高度时,对应的所述监测装置被触发;阻光装置,漂浮在所述研磨液的表面;其中,至少一个所述监测装置基于该阻光装置监测研磨液的液位;本装置在其中一个监测装置出错时,还有其他监测装置正常工作,从而保证了研磨液滴定装置工作的准确性和稳定性。
来源:金融界