金融界2025年6月5日消息,国家知识产权局信息显示,上海华虹宏力半导体制造有限公司申请一项名为“一种半导体存储装置的制备方法”的专利,公开号CN120091563A,申请日期为2025年02月。
专利摘要显示,本发明提供了一种半导体存储装置的制备方法,应用于半导体制备技术领域。在本发明中,通过不设置光阻层和光罩,以对整个基底进行第一次离子注入的方式,以达到缩减形成第一阱区和第二阱区的光罩、光刻等相关工艺的目的,而后再通过后续注入的离子进行的反型离子的中和,达到对应形成导电类型相反的第三阱区和第四阱区,进而达到减少制程工艺的步骤,降低嵌入式闪存芯片的制造成本,以及提高产品竞争力的目的。
天眼查资料显示,上海华虹宏力半导体制造有限公司,成立于2013年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2046092.7759万人民币。通过天眼查大数据分析,上海华虹宏力半导体制造有限公司共对外投资了7家企业,参与招投标项目880次,财产线索方面有商标信息39条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可429个。
来源:金融界