爱思开海力士申请存储器装置和制造存储器装置的方法专利，本文提供了存储器装置和制造存储器装置的方法
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2025-06-07 09:33:56
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金融界2025年6月7日消息，国家知识产权局信息显示，爱思开海力士有限公司申请一项名为“存储器装置和制造存储器装置的方法”的专利，公开号CN120111890A，申请日期为2024年05月。
专利摘要显示，本文提供了存储器装置和制造存储器装置的方法。该存储器装置包括：层叠体；沟道层，其穿透层叠体；隧道隔离层，其包围沟道层的外侧表面；覆盖层，其从沟道层延伸并且从层叠体向上突出；间隔物，其在层叠体上包围覆盖层的外侧表面；以及衬垫层，其沿着层叠体的顶表面和间隔物的外侧表面延伸。在实施方式中，隧道隔离层具有第一厚度，并且间隔物可具有大于第一厚度的第二厚度。在实施方式中，间隔物具有第一高度，并且衬垫层具有低于第一高度的第二高度。
来源：金融界
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