云在上半导体等申请溶体碳化硅晶片清洗装置及其方法专利，提高清洗效果_电子应用

云在上半导体等申请溶体碳化硅晶片清洗装置及其方法专利，提高清洗效果

创始人

2025-06-07 12:04:37

0次

金融界2025年6月7日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市云在上半导体材料有限公司;湖南湘芯新材料有限公司申请一项名为“一种溶体碳化硅晶片清洗装置及其方法”的专利，公开号CN120109058A，申请日期为2025年05月。

专利摘要显示，本发明公开了一种溶体碳化硅晶片清洗装置及其方法，包括清洗外框架，清洗网框，清洗网框用于放置溶体碳化硅晶片；清洁组件用于对溶体碳化硅晶片进行辅助的清洁，夹持固定组件用于对溶体碳化硅晶片进行夹持、固定，高度控制组件用于对清洗网框的高度进行调节，在清洗网框高度调节的过程中推动转动组件运行，有对清洗网框转动。本发明利用夹持固定组件可对溶体碳化硅晶片进行夹持、固定，利用转动组件可对溶体碳化硅晶片进行冲洗，同时通过高度控制组件可调节清洗网框和溶体碳化硅晶片的高度，且在高度调节时可使清洗网框和溶体碳化硅晶片转动，实现利用冲洗和浸泡结合的方式对溶体碳化硅晶片进行清洗，从而提高清洗效果。

天眼查资料显示，深圳市云在上半导体材料有限公司，成立于2023年，位于深圳市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市云在上半导体材料有限公司共对外投资了3家企业，财产线索方面有商标信息1条，专利信息15条，此外企业还拥有行政许可2个。

湖南湘芯新材料有限公司，成立于2024年，位于娄底市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本9800万人民币。通过天眼查大数据分析，湖南湘芯新材料有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目2次，专利信息5条，此外企业还拥有行政许可4个。

来源：金融界

企业方法云在上信息深圳市装置导体碳化硅组件专利溶体网框晶片

上一篇：国科微复牌涨超5%！A股半导体大动作，国科微豪赌胜算几何？

下一篇：深微半导体取得应用于MOS管检测筛选设备专利，便于MOS管进入输出板

云在上半导体等申请溶体碳化硅晶片清洗装置及其方法专利，提高清洗效果

相关内容

热门资讯