金融界2025年6月7日消息,国家知识产权局信息显示,株式会社东芝;东芝高新材料公司申请一项名为“接合体、陶瓷电路基板及半导体装置”的专利,公开号CN120097746A,申请日期为2021年10月。
专利摘要显示,实施方式涉及的接合体具备陶瓷基板、铜板和接合层。接合层配置在所述陶瓷基板的至少一面上,接合所述陶瓷基板和所述铜板。所述接合层含有Ti反应层及多个第1合金。所述Ti反应层含有氮化钛或氧化钛作为主成分。所述多个第1合金位于所述Ti反应层与所述铜板之间。所述多个第1合金分别含有选自Cu‑Sn合金及Cu‑In合金中的一种以上。所述多个第1合金具有相互不同的Sn浓度或In浓度。根据实施方式,能够降低翘曲量,并且能够提高接合工序的升温速度及降温速度。实施方式中,作为陶瓷基板氮化硅基板是适合的。
来源:金融界