中科同帜半导体取得一种真空甲酸炉专利，对功率半导体的冷却均匀性好
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2025-06-10 15:09:03
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金融界2025年6月10日消息，国家知识产权局信息显示，中科同帜半导体（江苏）有限公司取得一项名为“一种真空甲酸炉”的专利，授权公告号CN222964424U，申请日期为2024年07月。
专利摘要显示，本实用新型涉及真空炉技术领域，一种真空甲酸炉，包括第二插板阀、第三插板阀、第四插板阀、第五插板阀、冷却板组件、第二预热区、焊接区和冷却区；所述第二预热区的进口端设置有所述第二插板阀，所述第二预热区的出口端设置有所述第三插板阀，所述焊接区的进口端设置有所述第三插板阀，所述焊接区的出口端设置有所述第四插板阀，所述冷却区的进口端设置有所述第四插板阀，所述冷却区的出口端设置有所述第五插板阀，所述冷却板组件设置在所述冷却区内部，所述冷却板组件上部设置多个出气孔。对功率半导体的冷却均匀性好并且冷却效果好。
天眼查资料显示，中科同帜半导体（江苏）有限公司，成立于2016年，位于泰州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本3592.8854万人民币。通过天眼查大数据分析，中科同帜半导体（江苏）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目6次，专利信息71条，此外企业还拥有行政许可8个。
来源：金融界
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