韦尔半导体申请一种安全工作区MOSFET器件的制备方法及器件专利，降低生产成本
创始人
2025-06-11 12:37:20
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金融界2025年6月11日消息，国家知识产权局信息显示，上海韦尔半导体股份有限公司申请一项名为“一种安全工作区MOSFET器件的制备方法及器件”的专利，公开号CN120129297A，申请日期为2025年02月。

专利摘要显示，本申请实施例还提供一种安全工作区MOSFET器件的制备方法及器件，本申请将第一接触孔间隔设置不同宽度，本申请制备方法制备的MOSFET器件的导通电阻相比于传统宽SOA产品导通电阻小很多，而且可以降低生产成本，简化工艺流程。

天眼查资料显示，上海韦尔半导体股份有限公司，成立于2007年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本121442.6982万人民币。通过天眼查大数据分析，上海韦尔半导体股份有限公司共对外投资了38家企业，参与招投标项目10次，财产线索方面有商标信息25条，专利信息192条，此外企业还拥有行政许可13个。

来源：金融界

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