拓荆科技获得发明专利授权：“液体供应装置及半导体沉积设备”
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2025-06-14 04:07:39
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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项发明专利授权，专利名为“液体供应装置及半导体沉积设备”，专利申请号为CN202210920220.0，授权日为2025年6月13日。
专利摘要：本发明提供了一种液体供应装置及半导体沉积设备，涉及半导体沉积设备的技术领域。液体供应装置包括液态源罐体、制冷件和密封隔热壳体；制冷件设置在液态源罐体上，液态源罐体设置在密封隔热壳体内部；密封隔热壳体上开设有出气口和能够与吹拂气源连通的进气口；液态源罐体上设置有进出管路，且进出管路的一端突出于密封隔热壳体。半导体沉积设备包括液体供应装置。达到了低温液态源的的罐子表面不会出现冷凝水的技术效果。
今年以来拓荆科技新获得专利授权22个，较去年同期增加了144.44%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了7.56亿元，同比增31.26%。
数据来源：天眼查APP
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