IT之家 5 月 15 日消息，据新华社今日报道，国务院办公厅日前印发《国务院 2025 年度立法工作计划》。

在实施科教兴国战略、建设社会主义文化强国方面：

• 提请全国人大常委会审议商标法修订草案。
• 制定全民阅读促进条例，修订植物新品种保护条例。
• 预备提请全国人大常委会审议教师法修订草案、广播电视法草案、非物质文化遗产法修订草案、文化产业促进法草案、历史文化遗产保护法草案。
• 预备制定中医药传统知识保护条例、历史街区与古老建筑保护条例、传统村落保护条例，预备修订著作权法实施条例、著作权集体管理条例、互联网信息服务管理办法、文物保护法实施条例、集成电路布图设计保护条例、历史文化名城名镇名村保护条例。
• 推进人工智能健康发展立法工作。

IT之家查询公开资料获悉，《集成电路布图设计保护条例》是为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展，制定的条例。

《集成电路布图设计保护条例》经 2001 年 3 月 28 日国务院第 36 次常务会议通过，中华人民共和国国务院令（第 300 号）公布，自 2001 年 10 月 1 日起施行。

2024 年 12 月 26 日，国家知识产权局发布《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》征求社会各界意见，意见征询期至在 2025 年 2 月 9 日前。

2025 年 4 月 24 日，国新办就 2024 年中国知识产权强国建设有关情况举行新闻发布会，国家知识产权局局长申长雨表示，加快推动《集成电路布图设计保护条例》修改，更好适应超大规模集成电路的发展需要。

国家知识产权局副局长胡文辉表示，修改主要涉及三个方面：

• 一是完善了集成电路布图设计登记注册和确权程序，强化知识产权源头保护。要求申请人提交的申请文件能够清晰展示和确定布图设计受保护的内容，并将不符合该要求的情形作为驳回和撤销的理由。增加依申请启动撤销程序的规定，以便更好地平衡各方权益。
• 二是加强集成电路布图设计专有权保护，有效维护权利人合法权益。明确专有权保护范围以提交的复制件和图样为准，布图设计的独创性声明用于解释复制件和图样。新增诚信原则相关规定，引入对严重故意侵权行为的惩罚性赔偿制度。增加诉前证据保全的相关规定，以便更加有效地保护权利人的合法权益，降低维权成本。
• 三是促进布图设计实施和运用，助推新质生产力发展。新增职务创作奖酬的相关规定，规定法人或非法人组织应当在布图设计登记后，对创作布图设计的自然人进行奖励，布图设计实施后，根据其推广应用的范围和取得的经济利益，对创作布图设计的自然人应当给予合理报酬。完善布图设计共有权人行使权利以及专有权转让、许可和质押等相关规定，更加充分激发创新创造热情。