高伟光学申请电容缺陷检测系统等相关专利，提高电容缺陷检测的准确率和自动化程度
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2025-06-17 15:36:44
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金融界2025年6月17日消息，国家知识产权局信息显示，东莞高伟光学电子有限公司申请一项名为“一种电容缺陷检测系统、检测方法、控制器和存储介质”的专利，公开号CN120161049A，申请日期为2025年02月。
专利摘要显示，本申请公开了一种电容缺陷检测系统、检测方法、控制器和存储介质，电容缺陷检测系统包括光学检测设备，用于对待测电容拍摄图片，得到与待测电容对应的待测图片；自动检测装置，包括图片裁剪屏蔽模块、分析模块和标记模块，图片裁剪屏蔽模块用于对待测图片进行裁剪屏蔽处理，分析模块用于基于预设的深度学习模型对经裁剪屏蔽处理的待测图片进行分析对比处理，检测出不符合生产要求的待测图片，标记模块用于对不符合生产要求的待测图片进行标记处理得到地图；拆板机，用于根据地图将不符合生产要求的待测图片对应的不符合生产要求的待测电容自动拆除。
天眼查资料显示，东莞高伟光学电子有限公司，成立于2002年，位于东莞市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本43383.19万美元。通过天眼查大数据分析，东莞高伟光学电子有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目13次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息175条，此外企业还拥有行政许可73个。
来源：金融界
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