杭州积海半导体取得半导体栅极结构层制作工艺监测方法专利
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2025-07-18 14:38:38
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金融界2025年7月18日消息，国家知识产权局信息显示，杭州积海半导体有限公司取得一项名为“半导体栅极结构层制作工艺的监测方法”的专利，授权公告号CN120033099B，申请日期为2025年04月。
天眼查资料显示，杭州积海半导体有限公司，成立于2019年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本870000万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州积海半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目526次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息113条，此外企业还拥有行政许可13个。
来源：金融界
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