中国电建华东院申请可见光响应型光催化材料专利，能避免电子-空穴对复合
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2025-12-29 23:35:36
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国家知识产权局信息显示，中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司申请一项名为“可见光响应型光催化材料及其制备方法和应用”的专利，公开号CN121198359A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本申请涉及一种可见光响应型光催化材料及其制备方法和应用。本申请适用于环境污染治理技术领域。本申请要解决的技术问题是：提供一种可见光响应型光催化材料及其制备方法和应用。本申请所采用的技术方案是：一种可见光响应型光催化材料，包括零价铋，作为电子供体能快速将电子转移至反应界面，同时其本身能原位捕获空穴，避免电子‑空穴对复合；聚多巴胺，能在可见光光照下激发电子注入零价铋。
天眼查资料显示，中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司，成立于1993年，位于杭州市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本257463.2376万人民币。通过天眼查大数据分析，中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司共对外投资了198家企业，参与招投标项目5000次，财产线索方面有商标信息155条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可265个。
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来源：市场资讯
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