盛美半导体申请清洁系统及退火装置专利，能够实现冷却管路的自动清洁
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2025-12-30 22:10:41
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国家知识产权局信息显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“清洁系统及退火装置”的专利，公开号CN121222752A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本发明公开了一种清洁系统及退火装置，清洁系统包括冷盘、冷却管路、检测元件、管路清洗机和控制器，冷盘用于放置基板；冷却管路用于对基板进行冷却；检测元件用于实时检测冷却管路中的工艺参数，并输出工艺参数的检测信号；管路清洗机与冷却管路连接，用于对冷却管路进行清洁；控制器分别与检测元件和管路清洗机通信连接，用于接收检测信号，并根据检测信号控制管路清洗机对冷却管路进行清洁。本发明能够实现冷却管路的自动清洁。
天眼查资料显示，盛美半导体设备（上海）股份有限公司，成立于2005年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本47989.2514万人民币。通过天眼查大数据分析，盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目171次，财产线索方面有商标信息28条，专利信息654条，此外企业还拥有行政许可31个。
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来源：市场资讯
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