国家知识产权局信息显示,宁夏中星显示材料有限公司、太原理工大学申请一项名为“一种Nb2CTx-MXene纳米片空穴注入层材料的制备方法”的专利,公开号CN121269712A,申请日期为2025年9月。
专利摘要显示,本发明属于半导体光电子技术领域,具体涉及一种Nb2CTx-MXene纳米片空穴注入层材料的制备方法。该方法通过液相剥离法制备出高浓度、高分散性的Nb2CTx-MXene纳米片分散液,并将其作为空穴注入层材料应用于钙钛矿发光二极管或太阳能电池中。该材料具有优异的导电性、透光性以及匹配的能级结构,能有效提升器件的光电转换效率,且制备工艺简单、成本低廉,适合大规模生产。
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