埃科光电申请光电检测设备精度评估方法专利，大幅缩短参考仪器测量和待测仪器测量之间的时间间隔_电子应用

埃科光电申请光电检测设备精度评估方法专利，大幅缩短参考仪器测量和待测仪器测量之间的时间间隔

创始人

2026-01-23 14:39:49

0次

国家知识产权局信息显示，合肥埃科光电科技股份有限公司申请一项名为“一种光电检测设备精度评估方法、系统及存储介质”的专利，公开号CN121384221A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明公开了一种光电检测设备精度评估方法、系统及存储介质，该方法，包括：逐像素点亮标定屏幕各像素点，以逐像素获取标准光电检测设备对准基准区域的当前测量值；计算当前测量值与前一测量值的差分结果用于定位边界像素点，以获取标准光电检测设备在边界像素点内部的有效采样区域与基准区域的位置关系；获取待测光电检测设备采集的参考屏幕图像，以通过基准区域在所述参考屏幕图像上定位与有效采样区域对应的测量区域；本发明中，通过极易操作的方式实现亚毫米级的对齐精度，同时配合算法帮助在成像色度计获得的图像中定位参考仪器的测量位置，大幅缩短参考仪器测量和待测仪器测量之间的时间间隔，明显提高测量精度。

天眼查资料显示，合肥埃科光电科技股份有限公司，成立于2011年，位于合肥市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6800万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目25次，财产线索方面有商标信息16条，专利信息378条，此外企业还拥有行政许可14个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

投资检测仪器合肥精度设备测量评估专利区域测量值光电像素

上一篇：超威半导体取得通过片上高速缓存刷新显示器专利

下一篇：设备占比较高的半导体设备ETF易方达(159558)近2周规模增长显著，机构研判聚焦存储、晶圆制造、半导体设备三大核心赛道

埃科光电申请光电检测设备精度评估方法专利，大幅缩短参考仪器测量和待测仪器测量之间的时间间隔

相关内容

热门资讯