矩阵光电申请薄膜元件及其制备方法专利，降低拐角区域在受到静电冲击时的电流密度_电子应用

矩阵光电申请薄膜元件及其制备方法专利，降低拐角区域在受到静电冲击时的电流密度

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2026-01-31 16:42:18

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国家知识产权局信息显示，苏州矩阵光电有限公司申请一项名为“一种薄膜元件及其制备方法”的专利，公开号CN121442952A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本申请提供一种薄膜元件及其制备方法，其中薄膜元件，包括功能薄膜层；功能薄膜层包括第一薄膜区、第二薄膜区和第三薄膜区，其中：第二薄膜区的内侧与第一薄膜区的外侧边缘贴合；第二薄膜区包括设置在第二薄膜区的外侧拐角处的第三弧形部；第三薄膜区包括第二弧形部和第一弧形部，第二弧形部与第三弧形部贴合，第一弧形部设置在远离第二弧形部的一侧。上述方案中的薄膜元件的功能薄膜层包括设置在拐角结构处的第三薄膜区，第三薄膜区在远离拐角结构的一侧设置有弧形部，第三薄膜区的弧形部能够优化功能薄膜层的电流分布，在受到静电冲击时，电流在弧形部的分布更加平滑和分散，从而降低拐角区域在受到静电冲击时的电流密度。

天眼查资料显示，苏州矩阵光电有限公司，成立于2012年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6020.33074万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州矩阵光电有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目10次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息209条，此外企业还拥有行政许可14个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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