芯片的制造过程，光刻机、刻蚀机都是必不可少的设备。

光刻机是将芯片电路图投影至涂了光刻胶的硅晶圆上，进行电路的刻录，而刻蚀机则将刻录好的电路图保留下来，将不要的部分腐蚀掉，只保留要的部分。

所以光刻机重要，刻蚀机也同样重要，双方的功能互补，是对应的。

但大家不知道的是，国产光刻机技术不太行，但国产刻蚀机技术，可是非常行的。

从技术上来看，目前国产刻蚀机的技术是全球顶尖的，达到了国际同步的水平，而国产最强的刻蚀机厂商，就是中微公司了。

这家企业，则尹志尧博士，在2004年创办的，当时他从海外回来，带着一帮海归精英创办了它。至今也是20来年的历史。

在创办这家企业之前，尹志尧博士，一直在美国芯片巨头工作，比如英特尔，应用材料、泛林等，有着丰富的经验，还有着众多的专利。

他归国后，看到国产刻蚀机水平这么低，于是一头扎了进来，于2007年就推出了中国首台电容性等离子体刻蚀设备，打破国外垄断。

后来发展太快，还引来了应用材料的打压起诉，但有技术就不怕，针对应用材料的打压，中微根本就不怂，最后还胜诉了。

后来，中微不断的发展，不断的突破，一步一步的走到了世界前列，目前中微的刻蚀机，早已进入了台积电的供应链，技术也达到了3nm，是国产最强刻蚀机企业，也是全球最强的光刻机企业之一。

而为了保持这种先进性，同时避免被国外的供应链卡脖子，中微更是做了一件大事，那就是在自己的生产线上，实现100%的国产化，全部采用国产元件。

按照中微公司的官方说法，目前在生产线上实现了全套国产化，并且在刻蚀机的零部件上也实现了全部国产化，根本就不担心卡脖子的问题。

而除了刻蚀机之外，目前中微也涉足了薄膜沉积设备、MOCVD设备等，在这些领域，也达到了全球顶尖水平，特别是氮化镓基LED MOCVD设备，全球领先。

2025年，中微公司预计营收124亿元，其中刻蚀设备约占98.32亿元，其它的主要就是LPCVD和ALD等半导体薄膜设备，而利润超过20亿元，所以靠着这个业绩，能够杀进全球前20，排到全球第13名了。