晶至光电取得坩埚下降法用钼坩埚移动装置专利，降低坩埚损坏风险
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2026-02-11 19:40:51
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国家知识产权局信息显示，福州晶至光电科技有限公司取得一项名为“一种坩埚下降法用钼坩埚移动装置”的专利，授权公告号CN223892916U，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本实用新型涉及晶体生长技术领域，尤其涉及一种坩埚下降法用钼坩埚移动装置，包括:固定架；加热炉，固定安装于所述固定架的内侧底部，所述加热炉的上方设有密密封盖，所述密封盖的底部固定安装有多个直角杆，多个所述直角杆弯折段的上方共同放置有坩埚本体；升降组件，用于控制密封盖在竖直方向上移动。本实用新型通过转旋钮使得螺杆带动移动环螺旋下移，以推动每个套管下移，随后利用推拉杆对夹板的挤压，使得每个夹板向下转动，直至抵紧坩埚本体的表面，即可完成对坩埚本体的夹紧固定，从而保证了坩埚本体在移动过程中的稳定性，降低了坩埚本体损坏的风险。
天眼查资料显示，福州晶至光电科技有限公司，成立于2023年，位于福州市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1032.6万人民币。通过天眼查大数据分析，福州晶至光电科技有限公司财产线索方面有商标信息1条，专利信息4条，此外企业还拥有行政许可7个。
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来源：市场资讯
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