京东方华灿光电申请衬底回收方法专利，回收方法工艺简单并且成本低
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2026-02-14 01:39:24
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国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（广东）有限公司申请一项名为“衬底回收方法”的专利，公开号CN121510938A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本公开提供了一种衬底回收方法。该方法包括：通过剥离获得待回收的图形化衬底；在所述图形化衬底具有图形的一面制作覆盖层，所述覆盖层的厚度不大于所述图形的高度；对所述覆盖层和所述图形进行干法刻蚀，得到平片衬底。在剥离图形化衬底后，在图形化衬底具有图形的一面制作覆盖层，覆盖层的厚度不大于图形的高度，也即图形化衬底的一面在图形之间填充覆盖层，这样采用干法刻蚀刻蚀时，覆盖层和图形一起被刻蚀，进而形成平片衬底。该方法相比于相关技术使用的双面抛光工艺，回收方法工艺简单并且成本低。
天眼查资料显示，京东方华灿光电（广东）有限公司，成立于2022年，位于珠海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本186000万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（广东）有限公司参与招投标项目30次，专利信息80条，此外企业还拥有行政许可111个。
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