润华全芯申请用于半导体湿法设备的流体供应系统及方法专利，提升了半导体湿法工艺的稳定性和良率_电子应用

润华全芯申请用于半导体湿法设备的流体供应系统及方法专利，提升了半导体湿法工艺的稳定性和良率

创始人

2026-03-04 17:18:45

0次

国家知识产权局信息显示，宁波润华全芯微电子设备有限公司申请一项名为“用于半导体湿法设备的流体供应系统及流体供应方法”的专利，公开号CN121604762A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明申请涉及用于半导体湿法设备的流体供应系统及流体供应方法，属于半导体制造及微纳加工技术领域，用于半导体湿法设备的流体供应方法包括：在第一工作模式下，分流组件将来自主管路的流体导向对应的所述工艺腔室；在第二工作模式下，分流组件将来自主管路的流体导向一回流管路，所述回流管路与循环回路连通，以在维持供液支路流通状态的同时，停止向工艺腔室供液；分流组件在第一工作模式和第二工作模式之间相互切换。本发明申请通过在主管路形成循环回路，并在供液支路设置可切换工作模式的分流组件，实现流体的连续流通和稳定供应，同时优化补给机制以维持工艺流体的温度均匀性和浓度稳定性，提升了半导体湿法工艺的稳定性和良率。

天眼查资料显示，宁波润华全芯微电子设备有限公司，成立于2016年，位于宁波市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本3584.0571万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波润华全芯微电子设备有限公司参与招投标项目160次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息179条，此外企业还拥有行政许可22个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

供应良率设备宁波系统导体全芯工艺专利流体管路半导体湿法

上一篇：兆驰股份：DFB激光器芯片正处于小批量出货阶段

下一篇：ASE10N02A-ASEMI中低压MOS市场的「成本突围者」

润华全芯申请用于半导体湿法设备的流体供应系统及方法专利，提升了半导体湿法工艺的稳定性和良率

相关内容

热门资讯