斐旻电子取得耐腐蚀薄膜电容器专利，增强耐腐蚀效果
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2026-03-07 19:51:18
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国家知识产权局信息显示，斐旻（上海）电子科技有限公司取得一项名为“一种耐腐蚀的薄膜电容器”的专利，授权公告号CN223977810U，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本实用新型涉及电容器技术领域，公开了一种耐腐蚀的薄膜电容器，包括电容器外壳，所述电容器外壳的内部设置有电解质薄膜，所述电解质薄膜的两侧固定连接有外部电极，所述外部电极的左侧安装有正极导线，所述外部电极的右侧安装有负极导线，所述电容器外壳的顶端安装有顶盖，所述电容器外壳内部两侧的顶端固定连接有安装卡槽，所述顶盖底端的两侧固定连接有安装卡块，所述电解质薄膜的外部安装有耐腐蚀薄膜。该耐腐蚀的薄膜电容器通过耐腐蚀薄膜可以对电解质薄膜的外部进行防护，耐腐蚀薄膜和隔断薄膜可以包裹在电解质薄膜的外部，避免腐蚀材质直接接触到电解质薄膜造成损坏，该结构实现了增强耐腐蚀效果，解决了防护效果不佳的问题。
天眼查资料显示，斐旻（上海）电子科技有限公司，成立于2010年，位于上海市，是一家以从事专业技术服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，斐旻（上海）电子科技有限公司共对外投资了2家企业，专利信息24条，此外企业还拥有行政许可2个。
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来源：市场资讯
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