屹唐半导体取得反应腔室及晶圆刻蚀装置专利
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2025-05-27 22:06:45
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金融界2025年5月27日消息，国家知识产权局信息显示，北京屹唐半导体科技股份有限公司取得一项名为“反应腔室及晶圆刻蚀装置”的专利，授权公告号CN115799035B，申请日期为2022年12月。
天眼查资料显示，北京屹唐半导体科技股份有限公司，成立于2015年，位于北京市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本266000万人民币。通过天眼查大数据分析，北京屹唐半导体科技股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目174次，财产线索方面有商标信息17条，专利信息229条，此外企业还拥有行政许可87个。
来源：金融界
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