重庆博诺特取得芯片制造真空覆膜装置专利,下料速度快
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2025-05-27 22:38:39
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金融界2025年5月27日消息,国家知识产权局信息显示,重庆博诺特科技有限公司取得一项名为“一种芯片制造真空覆膜装置”的专利,授权公告号CN222914747U,申请日期为2024年08月。

专利摘要显示,本实用新型公开了一种芯片制造真空覆膜装置,涉及芯片制造技术领域。该芯片制造真空覆膜装置,包括底板、切割机构和翻转机构,底板的顶部固定安装有两组立板,两组立板之间转动安装有放置板,放置板的顶部开设有至少为两组的放置槽,放置板的前侧外表面铰接安装有盖板,翻转机构设置于其中一组立板上,翻转机构包括转柄和插杆,其中一组立板的一侧外表面转动安装有转柄,转柄的转轴与放置板传动连接。该芯片制造真空覆膜装置,通过放置板、翻转机构和盖板的配合,在各个放置槽内的芯片覆膜后,能够将放置板翻转,使得各个芯片落入盖板上并顺着盖板一并收集进收集箱内,下料速度快,提高了装置的实用性。

天眼查资料显示,重庆博诺特科技有限公司,成立于2013年,位于重庆市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,重庆博诺特科技有限公司参与招投标项目1次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息3条,此外企业还拥有行政许可3个。

来源:金融界

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