国家知识产权局信息显示,三星显示有限公司取得一项名为“沉积掩模和沉积设备”的专利,授权公告号CN224394983U,申请日期为2025年4月。
专利摘要显示,提供了沉积掩模和沉积设备。沉积掩模包括:基底,包括多个单元区域和划分多个单元区域的边沿区域;掩模隔膜,设置在基底的多个单元区域上;第一线和第二线,设置在基底的边沿区域上,其中,第一线和第二线在多个单元区域中的相邻的单元区域之间延伸,第一焊盘,连接到第一线,并且被配置为从基底的外边缘向第一线提供第一值的电压;以及第二焊盘,连接到第二线,并且被配置为从基底的外边缘向第二线提供第二值的电压。
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来源:市场资讯