艾匹克半导体取得碳化硅外延设备反应腔压力稳定控制结构专利，控制设备内气压平稳
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2025-06-02 11:33:20
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金融界2025年6月2日消息，国家知识产权局信息显示，江苏艾匹克半导体设备有限公司取得一项名为“一种碳化硅外延设备反应腔压力稳定控制结构”的专利，授权公告号CN222923324U，申请日期为2024年07月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种碳化硅外延设备反应腔压力稳定控制结构，包括换热盒和水箱，换热盒的内腔设置有换热管，水箱的顶部的中间设置有监测报警机构，监测报警机构包括控制器和前后两个流量传感器，控制器和流量传感器均固定于水箱的顶部，控制器的顶部设置有报警器，流量传感器及报警器与均通过导线与控制器电性连接，水箱顶部的背面设置有抽水机构。该装置在使用时，打开水泵，其可将水箱冷却水依次经抽水管、出水管和进水管抽入内管内，冷却水可通过内管的底部与换热盒1产生热交换，吸收换热盒的热量，以对其进行冷却，换热盒在使用时放置于碳化硅外延设备反应腔内，换热盒冷却后可对设备内空气进行冷却，以控制其内气压平稳。

来源：金融界

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