证券之星消息,根据天眼查APP数据显示上海新阳(300236)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种光敏剂及含其的i线光刻胶和制备方法”,专利申请号为CN202111187564.7,授权日为2025年11月11日。
专利摘要:本发明公开了一种光敏剂及含其的i线光刻胶和制备方法。本发明公开的光敏剂,其由光敏剂A和光敏剂B组成。采用本发明的光敏剂制得的i线光刻胶组合物在用于i线光刻时得到的光刻胶图形光敏性和分辨率高。
今年以来上海新阳新获得专利授权30个,较去年同期减少了18.92%。结合公司2025年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了1.22亿元,同比增25.4%。
通过天眼查大数据分析,上海新阳半导体材料股份有限公司共对外投资了28家企业,参与招投标项目73次;财产线索方面有商标信息10条,专利信息422条,著作权信息2条;此外企业还拥有行政许可105个。
数据来源:天眼查APP
以上内容为证券之星据公开信息整理,由AI算法生成(网信算备310104345710301240019号),不构成投资建议。