美光科技申请微电子装置及相关方法和存储器装置专利，提供包含堆叠结构、支柱结构及绝缘狭槽结构的微电子装置
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2025-12-09 09:07:32
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国家知识产权局信息显示，美光科技公司申请一项名为“微电子装置以及相关方法及存储器装置”的专利，公开号CN121078726A，申请日期为2025年5月。
专利摘要显示，本申请涉及微电子装置以及相关的方法及存储器装置。一种微电子装置包含堆叠结构、支柱结构及绝缘狭槽结构。所述堆叠结构包含块，所述块在第一方向上平行地水平延伸且个别地具有分别包含导电材料及与所述导电材料竖直相邻的绝缘材料的层级。所述支柱结构竖直延伸穿过所述堆叠结构的所述块。所述支柱结构分别包含水平插入介电材料与额外介电材料之间的空隙空间。所述绝缘狭槽结构在所述第一方向上平行地水平延伸。所述绝缘狭槽结构分别与所述支柱结构的群组水平重叠并竖直延伸到所述支柱结构的所述群组中。
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