昂图创新申请半导体检查期间的光响应不均匀性校正专利，可产生均匀图像
创始人
2026-03-04 18:42:59
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国家知识产权局信息显示，昂图创新有限公司申请一项名为“半导体检查期间的光响应不均匀性校正”的专利，公开号CN121605432A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，图像传感器在半导体生产工艺期间辅助检查半导体衬底，包括半导体晶片。然而，由于图像传感器之间的单元的不均匀性（其被称为光响应不均匀性（PRNU）），每个图像传感器在利用均匀光源照射时可生成不同的电压电平，这导致像素级的亮度不准确性，该亮度不准确性被称为光响应不均匀性（或照射平场处理）。对于给定的照射条件、物镜和相机，可使用对包括晶片在内的衬底进行校准的系统校准来校正光响应不均匀性（PRNU）。然后，将PRNU校正应用于利用给定设置获取的所有图像，以产生均匀图像。描述了即使当该衬底中存在相对于光学器件的法向轴的轮廓（例如，倾斜或翘曲）时也在运行时校正该PRNU的技术。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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