本源量子申请超导量子芯片衬底加工方法专利，使得第一光刻胶层在刻蚀衬底时不被影响
创始人
2026-03-14 16:49:41
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国家知识产权局信息显示，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司申请一项名为“一种超导量子芯片、衬底及其加工方法”的专利，公开号CN121666047A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，本申请公开了一种超导量子芯片、衬底及其加工方法，属于深硅刻蚀技术领域。加工衬底的方法包括：提供表面设置有第一光刻胶层的衬底；第一光刻胶层形成有露出部分衬底的第一沟槽；在第一沟槽的内壁形成保护层；保护层围绕形成第二沟槽；在衬底的厚度方向上，通过第二沟槽刻蚀衬底。通过上述方式，本发明能够使得第一光刻胶层在刻蚀衬底时不被影响，对第一光刻胶层形成的第一沟槽的形态进行保护，使其不会发生扩展、断裂等问题，以避免衬底的刻蚀达不到预期参数要求的情况。
天眼查资料显示，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司，成立于2017年，位于合肥市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3000.0008万人民币。通过天眼查大数据分析，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目113次，财产线索方面有商标信息662条，专利信息2074条，此外企业还拥有行政许可6个。
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来源：市场资讯
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