伟疆创新申请半导体芯片光刻对准精度提升辅助设备专利，可对光学系统的镜头进行擦拭_资源案例

伟疆创新申请半导体芯片光刻对准精度提升辅助设备专利，可对光学系统的镜头进行擦拭

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2026-03-26 16:20:55

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国家知识产权局信息显示，深圳市伟疆创新科技有限公司申请一项名为“一种半导体芯片光刻对准精度提升辅助设备”的专利，公开号CN121721907A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种半导体芯片光刻对准精度提升辅助设备，涉及套刻测量设备技术领域，包括套刻测量设备本体，套刻测量设备本体的内部设置有自检机构，套刻测量设备本体的内部设置有擦拭机构，自检机构能够每天对真空吸附结构的吸附状态进行自检，擦拭机构能够对光学系统的镜头进行擦拭，自检机构包括机械臂本体，机械臂本体安装于套刻测量设备本体的内部，此半导体芯片光刻对准精度提升辅助设备，可控制第二电磁阀打开，第一电磁阀关闭，即可将储存箱下半部分中清水抽出，对擦拭板棉状物中的清洗液进行清洗，再次对粗对准机构和精对准机构的镜头表面擦拭一遍即可，多余的清水和清洗液会通过引导板和矩形口进入到回收箱的内部储存起来。

天眼查资料显示，深圳市伟疆创新科技有限公司，成立于2017年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市伟疆创新科技有限公司参与招投标项目3次，专利信息5条，此外企业还拥有行政许可13个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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