积塔半导体取得失效分析样品载台专利，避免发生过度去层的情况
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2026-03-26 16:20:47
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国家知识产权局信息显示，上海积塔半导体有限公司取得一项名为“一种失效分析样品的样品载台及其制备装置”的专利，授权公告号CN224035355U，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本申请提供一种失效分析样品的样品载台及其制备装置。所述样品座包括样品座、旋转部和壳体。样品座的底面用于固定样品，旋转部包括定子和转子，转子与样品座连接，壳体的内部填充缓冲液体，且壳体与定子连接。通过缓冲液体的设置，在研磨压力突然增大时，缓冲液体能吸收突变的压力，起到缓冲的作用，避免发生过度去层的情况。通过将缓冲液体设为具有预定体积比的弹性体胶囊和硅油，能够对有效研磨压力进行设定，以保证对某一特定层的去除，适应不同膜层的去除需求。通过转动部的设置，利用研磨时距离轴心距离不同产生的线速度差带动样品座的旋转，使样品不同位置的研磨时间和接触的磨料数量相等，实现均匀去层。
天眼查资料显示，上海积塔半导体有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1790638.7534万人民币。通过天眼查大数据分析，上海积塔半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目1963次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息1348条，此外企业还拥有行政许可201个。
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来源：市场资讯
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