卡尔蔡司申请用于半导体光刻的投射曝光设备和方法专利，涉及一种用于半导体光刻的投射曝光系统
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2025-06-07 17:05:47
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金融界2025年6月7日消息，国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“用于半导体光刻的投射曝光设备和方法”的专利，公开号CN120112860A，申请日期为2023年10月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光系统(1、101)，包括至少一个光学元件(Mx、117)，其中用于使光学元件的光学有效表面(33)变形的至少一个致动器(44)设置在光学元件(Mx、117)的后侧(43)上，并且其中致动器(44)设计成垂直于光学有效表面(33)向光学元件(Mx、117)施加压缩力或拉伸力，其中至少一个致动器(44)设置在光学元件(Mx、117)的主体(30、50)中的腔(35、53)中。本发明还涉及一种用于将致动器(44)固定在光学元件(Mx、117)的主体(60)中的腔(63)中的方法，包括以下步骤：‑提供致动器(44)和至少一个径向夹持元件(68)；‑将致动器(44)和径向夹持元件(68)插入到腔(53)中，径向夹持元件(68)设置在致动器(44)和腔(53)的内表面(69)之间；‑拧紧夹持元件(68)以便固定致动器(44)。
来源：金融界
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