中芯国际申请半导体结构及其形成方法专利,极大提升半导体结构的良率
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2025-07-02 19:10:09
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金融界2025年7月2日消息,国家知识产权局信息显示,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯京城集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请一项名为“半导体结构及其形成方法”的专利,公开号CN120237113A,申请日期为2023年12月。

专利摘要显示,本发明提供一种半导体结构及形成方法,其中半导体结构包括:衬底,包括相对的第一面和第二面;贯穿衬底的互连通孔;位于第一面表面和互连通孔的侧壁表面的第一电极层、位于第一电极层表面的介电层以及位于介电层表面的第二电极层;位于互连通孔内的第二电极层表面的隔离层;位于互连通孔内的隔离层表面的导电层,导电层填充满互连通孔,且第二面暴露出导电层,第一电极层、介电层、第二电极层的存在,缩小了互连通孔内隔离层的形成空间,从而减了互连通孔内隔离层的形成厚度,提升加工效率;另外一方面,互连通孔贯穿衬底之后,在第二面和导电层的表面形成钝化层,避免了第二面的导电层开裂的风险,极大提升了半导体结构的良率。

天眼查资料显示,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司,成立于2002年,位于北京市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本100000万美元。通过天眼查大数据分析,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目52次,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可226个。

中芯京城集成电路制造(北京)有限公司,成立于2020年,位于北京市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500000万美元。通过天眼查大数据分析,中芯京城集成电路制造(北京)有限公司参与招投标项目34次,专利信息14条,此外企业还拥有行政许可248个。

中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,成立于2000年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目127次,财产线索方面有商标信息150条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可442个。

来源:金融界

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