SK海力士申请存储器装置及制造存储器装置的方法专利，提供了存储器装置及制造存储器装置的方法
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2025-11-27 11:15:50
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国家知识产权局信息显示，爱思开海力士有限公司申请一项名为“存储器装置及制造存储器装置的方法”的专利，公开号CN121013349A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本文提供了存储器装置及制造存储器装置的方法。存储器装置包括：栅极线，其层叠为彼此间隔开；第一阻挡层，其由栅极线包围并且层叠为彼此间隔开；电荷捕获层，其由第一阻挡层包围并且层叠为彼此间隔开；突出图案，其位于第一阻挡层之间和电荷捕获层之间；隧道隔离层，其由电荷捕获层和突出图案包围；以及沟道层，其由隧道隔离层包围。
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