鹏芯微申请半导体结构的制作方法专利，形成多个掩膜块
创始人
2026-06-20 14:48:27
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国家知识产权局信息显示，深圳市鹏芯微集成电路制造有限公司申请一项名为“半导体结构的制作方法”的专利，公开号CN122248980A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本公开实施例公开了一种半导体结构的制作方法，包括：提供第一掩膜层，所述第一掩膜层包括在第一方向上交替设置的第一条结构、第二条结构；所述第一方向与厚度方向相交；对所述第一条结构进行掺杂以形成多个掺杂区，多个所述掺杂区沿所述第一方向排列；蚀刻所述第一条结构，保留所述掺杂区；对所述第二条结构进行蚀刻，贯穿所述第二条结构的部分区域，形成多个掩膜块；多个所述掩膜块沿所述第一方向排列。
天眼查资料显示，深圳市鹏芯微集成电路制造有限公司，成立于2021年，位于深圳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本712800万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市鹏芯微集成电路制造有限公司参与招投标项目20次，财产线索方面有商标信息72条，专利信息161条，此外企业还拥有行政许可215个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
来源：市场资讯
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